准分子激光气
Excimer Laser Gases
ArF、KrF、XeCl
UN 1956
99.9999%
10L、16L、20L、49L、50L
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高功率准分子激光气体 | ||
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可用波长 |
193 nm |
ArF |
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248 nm |
KrF | |
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308 nm |
XeCl | |
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450nm~520nm |
XeF | |
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最大紫外功率 |
540 W | |
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最大紫外能量 |
1100 mj | |
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重复频率 |
可变, 1~600 Hz | |
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脉冲稳定性 |
0.5%~1%,rms | |
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长期漂移 |
0.1%~0.5%,rms | |
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光束分布 |
均匀,平顶 | |
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脉冲宽度 |
10~20 ns | |
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相关气体纯度 |
F2, 99.9% Ar, 99.9999% He, 99.9999% Ne, 99.9999% HCl, 电子级 Kr, 99.999% Xe, 99.999% O2, 99.999% H2, 99.999% | |
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气体工作温度 |
- 40 0C ~ + 74 0C | |
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气体压力 |
520 psig ~ 2400 psig / 35 Bar ~ 167 Bar | |
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钢瓶规格 |
10L、16L、20L、50L | |
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阀门接口 |
CGA 679、CGA 330、CGA 580、DIN 6、DIN 8、DIN 14 | |
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安全手册 |
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适用机型 |
波长 nm |
钢瓶规格 |
阀门规格 |
工作气体 |
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鹰视(COHERENT) |
193 |
20 L |
DIN 8 |
F2, 99.9% Ar, 99.9999% He, 99.9999% Ne, 99.9999% |
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博士伦(B & L) |
193 |
20 L、50 L |
DIN 8 | |
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蔡司(ZEISS) |
193 |
10L、20 L |
DIN 8 | |
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威视(VISX) |
193 |
16 L |
CGA 679 | |
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尼德克(NIDEK) |
193 |
16 L |
CGA 679 | |
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雷赛(LASERSIGHT) |
193 |
10 L |
CGA 679 | |
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爱尔康(Alcon) |
193 |
16 L |
CGA 679 | |
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康奥(SCHWIND) |
193 |
20 L |
DIN 8、 DIN 14 | |
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视可佳(六六视觉) |
193 |
16 L |
CGA 679 | |
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森美(SUMMIT) |
193 |
16 L |
CGA 679 | |
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科医人(COHERENT) |
308 |
8 L |
CGA 330 |
HCl,电子级 Xe,99.9995% Ne,99.9999% |
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美国 Photomedex |
308 |
8 L |
CGA 330 |
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品 牌 |
机 型 |
波 长 |
工作气体 |
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ATL |
ATL ARF-1 |
193 nm |
F2,Ar,Xe,Ne |
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ATL KRF-1 |
248 nm |
F2,Kr,Xe,Ne | |
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TUI |
CTFTS-ARFV 2.2 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne |
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CTFTS-KRFV 2.1 |
248 nm |
F2,Kr,He,Ne | |
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CTFTS-KRFV 2.2 |
248 nm |
F2,Kr,He,Xe,Ne | |
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CTMD-ARFV 2.0 |
193 nm |
F2,Ar,He,O2,Ne | |
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CTMD-XECLV 2.1 |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne | |
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CTMN-ARFV 2.0 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne | |
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CTMN-ARFV 2.1 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne | |
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CTMN-KRFV 1.0 |
248 nm |
F2,Kr,He,Ne | |
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CTMN-KRFV 2.0 |
248 nm |
F2,Kr,He,Ne | |
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CTMN-XECLV 2.0 |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne | |
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CTMN-XECLV 5.0 |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne | |
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CTMN-XEFV 1.1 |
450nm~520nm |
F2,Xe,He,Ne | |
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CTMN-XEFV 1.2 |
450nm~520nm |
F2,Xe,He,Ne | |
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GAM Laser |
EX5 ArF |
193 nm |
F2,Ar,He,O2,Ne |
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EX5 KrF |
248 nm |
F2,Kr,He,Ne | |
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EX5 XeCl |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne | |
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EX10 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne | |
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EX50 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne | |
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EX100 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne | |
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Photomedex |
XeCl |
308 nm |
HCl,Xe,Ne |
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Photoscribe |
ArF |
193 nm |
F2,Ar,Ne |
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KrF |
248 nm |
F2,Kr,Ne | |
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Potomac Photonics |
ArF |
193 nm |
F2,Ar,Ne |
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KrF |
248 nm |
F2,Kr,Ne | |
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Spectranetics |
XeCl |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne |