下载栏目
当前位置:首页  >  资料下载  >  四氟化碳(CF4)的合成与开发
气体资料

四氟化碳(CF4)的合成与开发

世源气体 www.51qiti.com  2008-12-23 9:53:00 [点击下载:555.doc]
四氟化碳(CF4)是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体,广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强,CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。 当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规模,各国为推动本国微电子工业的发展,越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言,CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场,因此具有广阔的发展潜力。
分享到:

广州市粤佳气体有限公司/广州市谱源气体有限公司版权所有2006-2013 粤ICP备08114730号

工厂地址:广东省广州市增城新塘镇西洲大王岗工业区
电话: 4006-377-517,020-82797785,13711176807曾小姐 传真: 020-82797482
技术支持:沁盟科技